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NF3 Haute pureté du trifluorure d'azote

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Overview

Attributs du produit

Modèle: Nitrogen Trifluoride CAS: 7783-54-2

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Unités de vente:: Gram

NF3 CAS du trifluorure d'azote: 7783-54-2 99,5%

Haute pureté pour électronique

gravure du gaz spécial

Utilisation des produits

Le trifluorure d'azote (NF3) est une sorte de gaz stable incolore, inodore et stable, c'est aussi une sorte d'oxydant fort. Son point de fusion est de 206,8 ℃, le point d'ébullition est de 129,0 ℃, insoluble dans l'eau. Le trifluorure d'azote dans l'industrie de la microélectronique est une sorte d'excellente gravure du gaz plasmatique, qui est craqué en ion fluor actif pendant le processus de gravure du plasma. Pour la gravure du plasma du silicium et du nitrure de silicium, l'utilisation de trifluoride d'azote a un taux de gravure et une sélectivité plus élevés que l'utilisation de téltrafluorure de carbone ou de tétrafluorure de carbone et de gaz mixte à l'oxygène, en particulier dans le processus de gravure du circuit intégré avec l'épaisseur de moins de 1,5 μm, Le trifluoride d'azote a un excellent taux de gravure et sélectivité, de plus, il n'y a pas de pollution à la surface du matériau gravé, c'est aussi un bon agent de nettoyage.

Paramètre du produit

Items	Unit	Indexs
（NF3）≥	Vol.%	99.5	99.9	99.98	99.99	99.996
（CF4）≤	Vol.ppm	1500	500	100	50	20
（N2）≤	Vol.ppm	700	50	10	10	5
（O2+Ar））≤	Vol.ppm	700	50	10	5	3
（CO）≤	Vol.ppm	50	10	10	5	1
（CO2）≤	Vol.ppm	25	10	10	5	0.5
（N2O）≤	Vol.ppm	50	10	10	5	1
（SF6）≤	Vol.ppm	50	50	10	5	2
Hydrolyzable fluoride （Measured by HF）≤	Vol.ppm	1	1	1	1	1
（H2O）≤	Vol.ppm	1	1	1	1	1

Groupes de Produits : Semi-conducteurs électroniques matériaux chimiques > Matériaux de gravure semi-conducteurs / plaquettes

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